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| 陰極保護(hù)干擾電流腐蝕（雜散電流腐蝕）機(jī)理 |
1.地下或水下金屬構(gòu)筑物的干擾電流腐蝕與其他腐蝕損傷不同，導(dǎo)致腐蝕的直流電流相對(duì)被影響的構(gòu)筑物來(lái)講是來(lái)自外部。通常被影響的構(gòu)筑物與被影響的構(gòu)筑物間沒(méi)有金屬性跨接，通過(guò)電解質(zhì)從直流電源吸取干擾電流。
2.干擾電流的有害影響，一般發(fā)生在被影響構(gòu)筑物泄放電流的位置。
3.對(duì)于鋁、鉛這樣的兩性金屬構(gòu)筑物，可能受到位于或靠近吸集雜散電流的金屬表面形成的堿性導(dǎo)致的腐蝕危險(xiǎn)。
4.由于電解質(zhì)中的電位梯度，在被影響的構(gòu)筑物上產(chǎn)生電流的區(qū)域可能發(fā)生覆蓋層的剝離。一旦外覆蓋層剝離，可能暴露出較大面積的金屬，這將要求增加陰極保護(hù)電流，這種剝離還可能產(chǎn)生屏蔽問(wèn)題。 |
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