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從理論上講，蝕核可在鈍化金屬的光滑表面上任何地點(diǎn)形成，隨機(jī)分布，但是當(dāng)鈍化膜局部有缺陷的時(shí)候，內(nèi)部就有硫化物夾雜，晶界上有碳化物沉積等時(shí)，蝕核將在這些特定點(diǎn)上優(yōu)先形成。
在大多數(shù)的情況下，蝕核將繼續(xù)長(zhǎng)大。當(dāng)孔蝕核長(zhǎng)大到一定臨界尺寸的時(shí)候，金屬的表面就會(huì)出現(xiàn)宏觀可見的蝕孔，蝕孔出現(xiàn)的特定點(diǎn)稱為孔蝕源。
在外加陽極極化的條件下，介質(zhì)中只要含有一定量的氯離子便可能使蝕核發(fā)展為蝕孔。在自然腐蝕的條件下，含氯離子的介質(zhì)中有溶解氧或陰離子氧化劑的時(shí)候，也會(huì)促使蝕核長(zhǎng)大成蝕孔。氧化劑能促進(jìn)陽極過程，使金屬的腐蝕電位上升至孔蝕臨界電位以上。 |
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