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埋地或者水下金屬構(gòu)筑物的干擾電流腐蝕不同于其他原因引起的腐蝕損傷。引起干擾腐蝕的直流電對被影響的構(gòu)筑物而言是一個外電源。通常，被干擾構(gòu)筑物從電解質(zhì)中引入來自直流電源的干擾電流，該直流電源與被干擾構(gòu)筑物之間無金屬連接。

干擾電流的有害作用往往發(fā)生在被干擾構(gòu)筑物與電解質(zhì)之間電流傳遞處。

由兩性金屬（譬如鋁和鉛）構(gòu)成的構(gòu)筑物可能會因為引入干擾電流而在金屬表面或者附近形成堿性環(huán)境而遭受腐蝕損傷。

由于電解質(zhì)中的電位梯度使被干擾構(gòu)筑物產(chǎn)生電流，在該電流區(qū)可使防腐層剝離。然而由于外腐蝕層的剝離，可裸露出大面積的金屬，這將增加陰極保護(hù)電流的需要量，并且可能產(chǎn)生屏蔽。